紫外光刻机与荷兰ASML对比紫外超分辨光刻机最新消息( 二 ) _知识经验

项目副总设计师、中科院光电技术研究所研究员胡松介绍：“第一个首先表现于我们现在的水平和国际上已经可以达到持一致的水平。
分辨率的指标实际上也是属于国外禁运的一个指标，我们这项目出来之后对打破禁运有很大的帮助。”
“第二个如果国外禁运我们也不用怕，因为我们这个技术再走下去，我们认为可以有保证。
在芯片未来发展、下一代光机电集成芯片或者我们说的广义芯片（研制领域），有可能弯道超车走在更前面。”

局限
当然，我们也不能头脑发热。
这个设备的出现，并不意味着我国的芯片制造立刻就能突飞猛进。
一方面，芯片制造是一个庞大的产业生态，另一方面中科院光电所的光刻机还有一定的局限。
据介绍，目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片等。
验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。
【紫外光刻机与荷兰ASML对比紫外超分辨光刻机最新消息】不过也有知乎网友表示“以目前的技术能力，只能做周期的线条和点阵，是无法制作复杂的IC需要的图形的” 。

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