国内什么时候能造出高端光刻机?1.2亿美元一台,比原枪弹还难造?

一直以来,半导体芯片都是国产技术中的薄弱点,特别与美国等发达国家相比,更是差距显明 。其实早在上个世纪五十年代,咱们国内就开始发展半导体技术了 , 那么为何直到现在国产芯片还是不能突起呢?
国内的芯片技术之所以和国外有差距,主要是由于两个方面的不足:第一个不足的地方在于缺乏先进装备的支持,而第二个不足的方面则是人材的短缺 。
自古以来,人材始终是技术领域的基础,如果没有足够的人材,或者不注重人材培育的话,那么任何一个国家在技术方面都不会有太大造诣 。现在咱们国内的人材缺失情况就很严重 , 然而这其实不是短期内就能解决的问题 , 需要累积和培育 。
所以,咱们今天谈论的其实不是人材,而是先进的装备 。大家都知道,一个芯片成品的诞生,需要经由设计、生产、封装以及测试四个步骤 。在芯片的设计、封装及测试方面 , 咱们国内的技术实力都很不错,乃至有些领域还达到了世界顶尖的水准 。
例如华为旗下的海思半导体就是一家卓越的芯片设计公司,在全世界规模内都无比知名 。然而惟独在芯片的生产方面 , 国内的技术还达不到请求,并且离国外顶尖水平相差甚远 。
为何国内没法生产出高水平的芯片呢?这主要是由于缺乏光刻机的支持,而这台机器则是芯片生产过程当中的必须品!目前全球最早进的光刻机技术集中在荷兰的ASML公司,只有它能生产出顶尖的光刻机,并且每一年的产量还少得可怜!
在这类情况下,每一台光刻机的价格都突破了1亿美元,乃至达到了1.2亿美元一台 , 可以说是“天价“ 。但即便是这样 , 全世界各大公司还是趋之若鹜,由于它的产量太少了,有时候有钱都不一定能买得到 。
那么1.2亿美元一台的光刻机 , 究竟有多难呢?咱们国内什么时候才能造出高端光刻机呢?其实光刻机不是难不难造的问题,而是你能否同时掌握那么多种人类最顶尖的技术的问题 , 由于光刻机恰是这些顶尖技术的复合体!
这些顶尖技术包含但不但限于光学技术、刻蚀技术以及薄膜层积技术等等 。一个国家想要同时掌握这么多顶尖技术实在是太难题了,就连一贯自夸为科技强国的美国都做不到 。
至于ASML公司为何能掌握,是由于它是聚拢了整个欧洲和美国的气力 , 这自然要比一个国家的科技实力强大得多 。所以说 , 咱们国内能研究出原枪弹 , 然而不一定能造出高端光刻机,其中的难度超乎咱们的想象 。
【国内什么时候能造出高端光刻机?1.2亿美元一台,比原枪弹还难造?】不过在中低端光刻机领域,国产技术还是值得认可的,毕竟咱们起步比国外晚 , 而且还是一直自食其力 。目前国内的光刻机技术已经达到了28nm,出自于上海微电子,预计明年就能够交付使用给了 。
毫无疑难 , 这是一个还不错的音讯,然而国内想要造出高端光刻机 , 就不知道还要等多久了 。如果继续这样突破下去,可能只需要几年 , 然而一旦堕入瓶颈的话,这时候间就会成倍地增长,乃至是造不出来都有可能!
尽管技术很难,然而咱们还是不能失去信念,如果连咱们自己都不相信能胜利的话 , 那么就永久造不出高端光刻机了 。相信在国内科研人员的努力下 , 国产高端光刻机总有一天会出现在大家的面前!
对于国内什么时候能造出高端光刻机 , 你们如何看呢?
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