佳能扩建光刻机产能 _生活知道

【佳能扩建光刻机产能】在相关限制启动的三年时间里，中国半导体产业迎来了飞速发展，全产业链的配套技术，都有相应的企业在研发，只要国产的光刻机能够到位，就可以够实现14nm以上的产能自主化，在见到这样的情境以后，老美也完全开始着急了。
对于现阶段的处境而言，想要期待老美放开EUV光刻机的限制，可以说基本上不可能，因此摆在我们眼前的只有两条路，要末自研自产高端的光刻机，要末就得寻觅不含美技术的厂商。

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目前国内仅能实现90nm光刻机的量产，如果依照ASML的老路走的话，没有国际供应链的支持，想要突破到满足7nm以下芯片制造的光刻装备，就算能够实现也需要很长的时间，相对而言第二种就比较容易实现，而日企佳能就给我们带来了好消息。
日本的半导体产业也曾盛极一时，当时的美企和日企根本就不在同一个层次上，但也正由于如此遭到了老美的打压，虽然如今自主化产能仅保持在30nm左右，但良好的技术底蕴还在，佳能、尼康更是被称之为“光刻机鼻祖” ，这几个字眼就足以说明一切了。
就在近日外媒传出了消息，日企佳能的光刻机新工厂已经开建，正式投产以后将会诞生低成本的先进芯片制造装备，很有可能就是2021款的纳米压印光刻机的升级版，能够突破到14nm线宽的分辨率，足以满足纳米芯片的生产需求。
而目前ASML的EUV光刻机，也差不多就这样的水平，要生产5nm以下的芯片，就需要依托新一代的NA EUV光刻机，才能达成更好的效果，因此这次佳能的突破，相当于已经打破了ASML对于EUV光刻机的垄断。
目前在成熟工艺上，国内基本能够实现自给自足了，但在先进工艺上，仍然要依赖于美企的进口，如果佳能的新型的光刻机能够出口，这方面的顾虑也就迎刃而解了，那究竟日企的先进装备，能够正常的出货到中国市场呢？
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佳能扩建光刻机产能

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