性能拉满,能耗暴降


说起这个首次实现量产的3纳米芯片 , 就不能不提到它背后的MBCFET技术 。

性能拉满,能耗暴降

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MBCFE突破了此前FinFET的性能限制,通过降低电源电压水平来提高功率效力,同时还通过增加驱动电流能力提高了性能 。
说起纳米片晶体管和半导体芯片的应用,三星这还是第一次 。目的是为了实现高性能、低功耗的计算服务 。终究能在移动处理器上也得以应用 。
三星的总裁,兼代工业务负责人Siyoung Choi博士表示 , 「我们一直都发展得很快 。三星一直紧跟前沿的技术 , 然后想方法把它们投入生产应用 。比如说之前的首个High-K金属栅极、FinFET,还有EUV等等 。」
「现在,我们又是第一个研究MBCFET的 。」
【性能拉满,能耗暴降】三星的独家技术应用了有更宽的通道的纳米片,和用通道窄一点的纳米线的传统GAA技术相比 , 不光提升了性能,还提高了能源利用率 。
不但如此,应用了3纳米GAA技术,三星还能通过调整纳米片的通道宽度,优化功耗和性能,来满足各类客户的不同需求 。
另外 , 3纳米GAA的设计非常灵活,简直就是为设计技术协同优化(DTCO)量身打造的 。我们主要看新技术应用以后,芯片的功耗、性能和面积大?。≒PA,Power、Performance、Area)三个维度来量化 。
和5纳米的工艺相比,第一代3纳米工艺相比5纳米降低了高达45%的能耗,提升了23%的性能,减少了16%的面积 。
光是一代的提升就已经肉眼可见了 。
更不用说二代的PPA——功耗降低50%、性能提高30%、面积减少35%,比一代又优秀了不知多少 。
关于本次性能拉满,能耗暴降的问题分享到这里就结束了 , 如果解决了您的问题,我们非常高兴 。

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